создать систему компьютерного управления расходом металла, скоростью вытяжки заготовки и ее вторичным охлаждением на основе комплексного световодного и радиолокационного, контактного и многоцветового бесконтактного непрерывного контроля теплофизических параметров, определяющих процессы формирования заготовки в кристаллизаторе: температуры расплава в промежуточном ковше, уровня и толщины шлакового покрытия металлов в кристаллизаторе, количества отводимого кристаллизатором тепла, температуры поверхности заготовки под кристаллизатором и в зоне вторичного охлаждения, что обеспечит требуемые для получения качественного проката минимальные термические напряжения и структурную однородность заготовки, повышение производительности разливки и исключит прорывы металла под кристаллизатором.
Самое читаемое:
Лампы СВЧ диапазона
К лампам СВЧ диапазона можно отнести лампу бегущей волны и лампу обратной
волны. Эти лампы относятся к электровакуумным приборам СВЧ диапазона. Эти лампы
в основном применяются для усиления сигналов СВЧ.
...