Разделы сайта

Оценка устойчивости ЖЛАХ

Получаем уравнение замкнутой функции скорректированного уравнения

Приравняем знаменатель уравнения (9) к нулю и найдем корни замкнутого скорректированного уравнения.= 0.7354 + 0.2948i

Z2= 0.7354 - 0.2948i

Корни находятся внутри окружности единичного радиуса, значит система устойчива.

Построение переходного процесса и определение показателей качества.

Построим переходной процесс полученной скорректированной функции, см. Приложение.

Используем единичное воздействие H(z)=Fскорр (z)*Z{1(t)}

Рис. 5. Переходной процесс скорректированной функции

tпп=0.003185 с. - время переходного процесса.

=1/(2.5*314)= 0.00127389с. - период дискретности;

Tпп=0.003185 / 0.00127389- время регулирования 2,5 такта.

σ= 10% - перерегулирование.

Из показателей качества переходного процесса (рис. 5) следует, что спроектированная цифровая система управления соответствует показателям качества, предъявляемым к техническим системам.

Заключение

В процессе работы была синтезирована передаточная функция по заданному графику, была построена желаемая ЛАХ, а так же ее переходной процесс, по которому можно судить об устойчивости системы. В ходе работы были, изменены значения, после чего мы получили следующие показатели качества:

Время перерегулирования = 0.003185 с. σ= 10%.

По полученной ЖЛАХ можно сделать вывод что система устойчива и полностью корректна.

Приложение

Листинг программы.

chis=[80];=[0.000158,1];=[0.0283,1];=conv(chis,chis1);=conv(znam1,znam1);=tf(chiso,znam); - исходная передаточная функция

bode(pf); grid;-ЛАХ и ФЧХ исходной функции

1/314;

T=1/(2.5*3,14);

Wh=c2d(pf,T,'zoh') разомкнутая система

Fh=feedback(Wh,1) Замкнутая система

pole(Fh) Корни% -Корни уравнения

step(Wh) - график переходного процесса исходного уравнения

Wl=d2c(Wh,'tustin') строим ЖЛАХ системы на псевдочастоте

%bode(PerfwL);grid;

Самое читаемое:

Оптимизация процесса напыления материала в магнетронной системе распыления
Оптимизировать процесс напыления материала в магнетронной системе распыления: определить расстояние от поверхности мишени, на котором можно получить заданную толщину напыляемой пленки с требуемой неравномерностью при максимально возможной скорости напыления. Таблица 1. Вариант задания № варианта ...