
|
|
|
||||||||
|
1 |
33 |
13 |
10 |
3,3 |
0,62 |
1 |
50 |
0.7 |
2 |
Самое читаемое:
Оптимизация процесса напыления материала в магнетронной системе распыления
Оптимизировать
процесс напыления материала в магнетронной системе распыления: определить
расстояние от поверхности мишени, на котором можно получить заданную толщину
напыляемой пленки с требуемой неравномерностью при максимально возможной
скорости напыления.
Таблица
1. Вариант задания
№ варианта
...