Разделы сайта

Определение основных параметров усилительных каскадов на транзисторах

, кОм, кОм, кОм, кОм, кОм, мА, кОм, кОм

1

33

13

10

3,3

0,62

1

50

0.7

2

Самое читаемое:

Оптимизация процесса напыления материала в магнетронной системе распыления
Оптимизировать процесс напыления материала в магнетронной системе распыления: определить расстояние от поверхности мишени, на котором можно получить заданную толщину напыляемой пленки с требуемой неравномерностью при максимально возможной скорости напыления. Таблица 1. Вариант задания № варианта ...

www.techstages.ru : Все права защищены! 2021